”集成电路 光刻“ 的搜索结果

     光刻是集成电路最重要的加工工艺，他的作用，如同金工车间中车床的作用。在整个芯片制造工艺中，几乎每个工艺的实施，都离不开光刻的技术。光刻也是制造芯片的最关键技术，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技...

     87年3月于美国加州圣·克拉拉光学仪器工程师协会召开的微型光刻术中的激光会议上 重要的事件是，GCA公司宣布了第一个分辨率为0.5纳米的基于准分子激光器的印刷系统将在1987年第二季度推出。这次会议还介绍了另外几种...

     由于半导体工艺研发的复杂性、长期性和高昂的成本等等不利因素的制约，如何在现有技术水平的基础上进一步提高器件的集成密度，缩小芯片的面积，在同一枚硅片上尽可能多的得到有效的芯片数，从而提高整体利益，将...

     集成电路制造工艺——光刻与刻蚀工艺 集成电路制造工艺——外延 集成电路制造工艺——化学气相沉积 集成电路制造工艺——外延 集成电路制造工艺——化学气相沉积 集成电路制造工艺——离子注入 集成电路...

     随后，该书针对光刻制程的设计、模拟和优化等方面，详细地介绍了光刻设计和模拟软件、可视化光刻仿真工具以及集成电路光刻制程的逆向仿真技术，这些技术的推广应用促进了微影技术在工业应用中不断提高速度和质量。...

光刻

标签：   光刻 其它

     光刻是通过一系列生产步骤将晶圆表面薄膜的特定部分除去的工艺（图4.7）。在此之后，晶圆表面会留下带有微图形结构的薄膜。...光刻生产的目标是根据电路设计的要求，生成尺寸精确的特征图形，并且在晶圆

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